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排气管和气相沉积设备
申请人信息
- 申请人:重庆欣晖材料技术有限公司
- 申请人地址:400000 重庆市江北区鱼嘴镇永和路39号10层1021室
- 发明人: 重庆欣晖材料技术有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 排气管和气相沉积设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202421382990.5 |
| 申请日 | 2024/6/17 |
| 公告号 | CN222119381U |
| 公开日 | 2024/12/6 |
| IPC主分类号 | C23C16/44 |
| 权利人 | 重庆欣晖材料技术有限公司 |
| 发明人 | 張珉碩 |
| 地址 | 重庆市江北区鱼嘴镇永和路39号10层1021室 |
摘要文本
本实用新型公开了一种排气管，所述排气管用于反应腔室，所述排气管包括：出口；多个排气口，所述多个排气口设置在所述排气管的周向侧壁上，使得所述反应腔室内的气体能够从所述多个排气口进入所述排气管并经由所述出口排出所述反应腔室；其中，所述多个排气口中的至少两个排气口相对于所述反应腔室的底部在竖向方向上的高度是不同的，本实用新型还公开了一种气相沉积设备，通过使用该排气管和气相沉积设备使反应气体能够更均匀地分布在反应腔室中，从而改善位于反应腔室内不同位置处的基材上的沉积层厚度的一致性。
专利主权项内容
1.一种排气管，所述排气管用于反应腔室，其特征在于，所述排气管包括：
出口；
多个排气口，所述多个排气口设置在所述排气管的周向侧壁上，使得所述反应腔室内的气体能够从所述多个排气口进入所述排气管并经由所述出口排出所述反应腔室；
其中，所述多个排气口中的至少两个排气口相对于所述反应腔室的底部在竖向方向上的高度是不同的。。