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一种半导体晶圆化学金槽

申请号: CN202323412291.9
申请人: 广东芯华镁半导体技术有限公司
更新日期: 2026-03-24

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种半导体晶圆化学金槽
专利类型 实用新型
申请号 CN202323412291.9
申请日 2023/12/13
公告号 CN222119390U
公开日 2024/12/6
IPC主分类号 C23C18/42
权利人 广东芯华镁半导体技术有限公司
发明人 吴攀
地址 广东省惠州市惠阳三和开发区天星二路侧上围小组

摘要文本

本实用新型属于半导体晶圆化学金槽技术领域,尤其是一种半导体晶圆化学金槽,针对现有的半导体晶圆为静止浸泡,浸泡效果不佳,不方便后期镀金的问题,现提出如下方案,其包括金槽主体,金槽主体的底部设置有四个支撑腿,金槽主体内固定安装有两个支撑滑杆,两个支撑滑杆上滑动安装有两个滑条,两个滑条之间安装有同一个连接杆,金槽主体的底部设置有往复机构,往复机构与连接杆连接,金槽主体的内壁上设置有加热板,两个滑条的顶部安装有同一个支撑板,支撑板的顶部安装有四个竖直杆,四个竖直杆的顶部安装有同一个放置机构。本实用新型结构简单,可以提高浸泡效果,且方便浸泡后对半导体晶圆拆卸。。百度

专利主权项内容

1.一种半导体晶圆化学金槽,包括金槽主体(1),金槽主体(1)的底部设置有四个支撑腿,其特征在于,所述金槽主体(1)内固定安装有两个支撑滑杆(3),两个支撑滑杆(3)上滑动安装有两个滑条(4),两个滑条(4)之间安装有同一个连接杆(5),金槽主体(1)的底部设置有往复机构,往复机构与连接杆(5)连接,金槽主体(1)的内壁上设置有加热板(13),两个滑条(4)的顶部安装有同一个支撑板(10),支撑板(10)的顶部安装有四个竖直杆(11),四个竖直杆(11)的顶部安装有同一个放置机构。