一种形成图案的方法，包括：在层叠在刻蚀目标层上的底层上形成柱的阵列；在柱上形成分隔壁层以提供覆盖柱的侧壁的分隔壁；在分隔壁层上形成嵌段共聚物层；对嵌段共聚物层退火以形成位于柱之间的第一域以及围绕并隔离第一域的第二域；选择性地去除第一域以形成第二开口；选择性地去除柱以形成第四开口；形成从第二开口和第四开口延伸的第五开口以穿透底层；形成密封图案，密封图案覆盖并密封第五开口之中的虚设开口；以及形成第七开口以穿透刻蚀目标层，第七开口从通过密封图案暴露的第五开口延伸。

潘槿道 金弘益 许仲君 卜喆圭

爱思开海力士有限公司

韩国京畿道

一种形成图案的方法，包括：在层叠在刻蚀目标层上的底层上形成柱的阵列；在柱上形成分隔壁层以提供覆盖柱的侧壁的分隔壁；在分隔壁层上形成嵌段共聚物层；对嵌段共聚物层退火以形成位于柱之间的第一域以及围绕并隔离第一域的第二域；选择性地去除第一域以形成第二开口；选择性地去除柱以形成第四开口；形成从第二开口和第四开口延伸的第五开口以穿透底层；形成密封图案，密封图案覆盖并密封第五开口之中的虚设开口；以及形成第七开口以穿透刻蚀目标层，第七开口从通过密封图案暴露的第五开口延伸。