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专利摘要

本发明公开一种光MEMS器件封装结构及其制备方法,包括玻璃盖板层、器件结构层与TSV盖板层;所述玻璃盖板层包括玻璃片,玻璃片底部设有环形的硅密封框,硅密封框的框底设有浆料键合密封环;所述器件结构层包括可动结构,可动结构顶面设有镜面金属层;TSV盖板层包括硅片,硅片中心设有与可动结构形成配合的凹腔;玻璃盖板层通过浆料键合密封环与器件结构层的顶部相键合;所述TSV盖板层顶部与器件结构层底部通过上、下键合锚点以及上、下金属键合密封环相键合;该封装采用晶圆级封装,解决了芯片级MEMS扫描镜封装体积大、成本高、效率低的缺点。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011162993.4
申请日
2020-10-27
公开日
2021-01-26
公开号
CN112265954A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

陈博 何凯旋 王鹏 赵娟 刘磊 王文婧

申请人

华东光电集成器件研究所

申请人地址

233030 安徽省蚌埠市经济开发区汤和路2016号

专利摘要

本发明公开一种光MEMS器件封装结构及其制备方法,包括玻璃盖板层、器件结构层与TSV盖板层;所述玻璃盖板层包括玻璃片,玻璃片底部设有环形的硅密封框,硅密封框的框底设有浆料键合密封环;所述器件结构层包括可动结构,可动结构顶面设有镜面金属层;TSV盖板层包括硅片,硅片中心设有与可动结构形成配合的凹腔;玻璃盖板层通过浆料键合密封环与器件结构层的顶部相键合;所述TSV盖板层顶部与器件结构层底部通过上、下键合锚点以及上、下金属键合密封环相键合;该封装采用晶圆级封装,解决了芯片级MEMS扫描镜封装体积大、成本高、效率低的缺点。

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