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一种半导体结构
申请人信息
- 申请人:合肥晶合集成电路股份有限公司
- 申请人地址:230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
- 发明人: 合肥晶合集成电路股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种半导体结构 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420137582.7 |
| 申请日 | 2024/1/19 |
| 公告号 | CN222051764U |
| 公开日 | 2024/11/22 |
| IPC主分类号 | H01L23/544 |
| 权利人 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 发明人 | 李宁; 韩领; 丁贤林; 冯玲; 郑晓 |
| 地址 | 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号 |
摘要文本
合肥晶合集成电路股份有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种半导体结构,属于半导体技术领域,所述半导体结构至少包括:衬底;有源区,多个所述有源区并列设置在所述衬底上,且相邻所述有源区之间设置浅沟槽隔离结构;多个栅极结构,多个所述栅极结构并列设置在所述有源区上,单个所述栅极结构横跨多个所述有源区,且相邻所述栅极结构之间设置有预设距离;检测图形,设置在所述衬底的中心,且位于相邻所述栅极结构之间;源漏极,设置在所述栅极结构两侧;第一接触孔,设置在所述有源区和所述栅极结构的两端;以及检测接触孔,间隔设置在相邻所述栅极结构之间的所述有源区上。本实用新型提供的一种半导体结构,能够有效测试半导体漏电缺陷,从而提高产品良率。
专利主权项内容
1.一种半导体结构,其特征在于,至少包括:
衬底;
有源区,多个所述有源区并列设置在所述衬底上,且相邻所述有源区之间设置浅沟槽隔离结构;
多个栅极结构,多个所述栅极结构并列设置在所述有源区上,单个所述栅极结构横跨多个所述有源区,且相邻所述栅极结构之间设置有预设距离;
检测图形,设置在所述衬底的中心,且位于相邻所述栅极结构之间;
源漏极,设置在所述栅极结构两侧;
第一接触孔,设置在所述有源区和所述栅极结构的两端;以及
检测接触孔,间隔设置在相邻所述栅极结构之间的所述有源区上。