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专利摘要

本发明揭示一种掺杂铋(Bi)的半绝缘晶片Ga

专利状态

基础信息

专利号
CN201380048113.2
申请日
2013-02-28
公开日
2018-01-12
公开号
CN104781456B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
授权

发明人

桥本忠朗 艾德华·里特斯 锡拉·霍夫

申请人

希波特公司 首尔半导体股份有限公司

申请人地址

美国加利福尼亚州

专利摘要

本发明揭示一种掺杂铋(Bi)的半绝缘晶片Ga

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