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专利摘要

本发明涉及一种碳化硅籽晶及其处理方法和一种碳化硅晶体。
所述碳化硅籽晶包括正面和背面,所述背面覆有保护层,所述保护层包括过渡层和碳膜层,所述过渡层位于籽晶与碳膜层之间,所述过渡层为碳化硅颗粒与碳复合的膜层。
保护层与籽晶的粘附力高,能有效地保护籽晶背面,抑制背向蒸发,提高碳化硅晶体质量。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910674058.7
申请日
2019-07-25
公开日
2021-01-29
公开号
CN112281220A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

郭少聪 王军 陈小芳 周维 蔡凯 黄晓升 崔孟华

申请人

比亚迪股份有限公司

申请人地址

518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号

专利摘要

本发明涉及一种碳化硅籽晶及其处理方法和一种碳化硅晶体。
所述碳化硅籽晶包括正面和背面,所述背面覆有保护层,所述保护层包括过渡层和碳膜层,所述过渡层位于籽晶与碳膜层之间,所述过渡层为碳化硅颗粒与碳复合的膜层。
保护层与籽晶的粘附力高,能有效地保护籽晶背面,抑制背向蒸发,提高碳化硅晶体质量。

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